| 发明名称 | 在对含烃地层进行就地热处理过程中的分阶段和/或阵列式加热 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于对含烃地层进行处理的方法。用于对含烃地层进行处理的这一方法包括操作：利用第一组加热器(158)对第一体积(162)的地层进行加热。可利用第二组加热器(158)对第二体积(164)的地层进行加热。利用一第三体积的地层将第一体积地层与第二体积地层分隔开。第一、第二、和/或第三体积地层的尺寸、形状、和/或位置被设计成能抑制地下设备的变形，该变形是由地层在加热过程中产生地质力学运动所致。 | ||
| 申请公布号 | CN1717531A | 申请公布日期 | 2006.01.04 |
| 申请号 | CN200380104380.3 | 申请日期 | 2003.10.24 |
| 申请人 | 国际壳牌研究有限公司 | 发明人 | H·J·维尼格;J·M·卡拉尼卡斯;K·S·汉森 |
| 分类号 | E21B43/24(2006.01) | 主分类号 | E21B43/24(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 蒋旭荣 |
| 主权项 | 1.一种用于对含烃地层进行处理的方法，其包括步骤：利用第一组加热器对第一体积的地层进行加热；以及利用第二组加热器对第二体积的地层进行加热，其中，利用一第三体积的地层将第一体积地层与第二体积地层分隔开，且第一、第二、和第三体积地层的尺寸、形状、和/或位置被设计成能抑制地下设备的变形，该变形是由地层在加热过程中产生地质力学运动所致。 | ||
| 地址 | 荷兰海牙 | ||