| 发明名称 | 使用高分子化合物的挠性发射极及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种使用高分子化合物制造挠性发射极的方法。该方法包括：在玻璃基板上以预定图案形成电致发光碳材料，以便在该玻璃基板上形成发射极图案；在发射极图案和玻璃基板上形成预定高度的电极层；在电极层上施加聚合物凝胶材料；固化聚合物凝胶材料；以及从玻璃基板分离挠性发射极。 | ||
| 申请公布号 | CN1716496A | 申请公布日期 | 2006.01.04 |
| 申请号 | CN200510074723.7 | 申请日期 | 2005.05.31 |
| 申请人 | 三星SDI株式会社 | 发明人 | 李玹姃;文钟云;李常贤 |
| 分类号 | H01J9/02(2006.01);H05B33/10(2006.01) | 主分类号 | H01J9/02(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
| 主权项 | 1.一种使用高分子化合物制造挠性发射极的方法，包括：在玻璃基板上以预定图案形成电致发光碳材料，以便在该玻璃基板上形成发射极图案；在所述发射极图案和所述玻璃基板上形成预定高度的电极层；在所述电极层上施加聚合物凝胶材料；固化所述聚合物凝胶材料；及从所述玻璃基板分离所述挠性发射极。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||