| 发明名称 | 光学元件及使用该光学元件的投影曝光装置 | ||
| 摘要 | 浸渍曝光装置具有将图形的像投影在晶片W上的投影光学系统PL和向投影光学系统PL末端的光学元件4与晶片W间供给液体7的装置5。为了防止由液体7引起的侵蚀，光学元件4的表面形成了由氧化物构成的耐侵蚀性膜。即使以浸渍状态进行步进重复方式这样的统一曝光和步进扫描方式这样的扫描型曝光，也能够长时间维持投影光学系统的所期望的性能。 | ||
| 申请公布号 | CN1717776A | 申请公布日期 | 2006.01.04 |
| 申请号 | CN200380104398.3 | 申请日期 | 2003.12.10 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 白井健 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01);G03F7/20(2006.01);G02B1/10(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王以平 |
| 主权项 | 1.一种光学元件，用于将规定图形投影在基板上以将基板曝光的投影光学系统，具有：安装在上述投影光学系统的基板侧末端、在液体维持在该光学元件与基板之间的状态进行曝光的光学元件的基体，为了防止由上述液体引起的侵蚀，在上述光学元件的基体的至少一部分的表面上形成的耐侵蚀性膜。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||