| 发明名称 | 薄膜线圈及其制造方法、线圈构造体及其制造方法 | ||
| 摘要 | 提供一种能够通过尽可能地降低电容量来提高差分传送特性的线圈构造体。构成共态扼流线圈，使构成薄膜线圈(30)的两个线圈图案(31、32)的截面都具有左右非对称的倒梯形。根据两个线圈图案(31、32)的截面都具有左右非对称的倒梯形的构造特征，将与电容量有关的两个线圈图案(31、32)之间的对置面积尽可能地减小，所以能够尽可能地减小薄膜线圈(30)的电容量。 | ||
| 申请公布号 | CN1716467A | 申请公布日期 | 2006.01.04 |
| 申请号 | CN200510082194.5 | 申请日期 | 2005.07.01 |
| 申请人 | TDK株式会社 | 发明人 | 锻冶利奈;上岛聪史;青木进;竹尾建治;佐藤庆一 |
| 分类号 | H01F17/00(2006.01);H01F27/28(2006.01);H01F37/00(2006.01);H01F41/02(2006.01) | 主分类号 | H01F17/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 张天安;杨松龄 |
| 主权项 | 1、一种薄膜线圈，包括配设在规定的衬底上、以规定的中心位置为中心相互并列地卷绕成螺旋状的第1线圈图案和第2线圈图案，其特征在于，上述第1线圈图案和上述第2线圈图案的截面两者都具有梯形，其中将位于距上述衬底较远一侧、规定两个底角的一个端缘作为相互平行的一组对边中较长的对边，并将位于靠近上述衬底一侧的另一个端缘作为上述一组对边中较短的对边。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||