发明名称 电致发光基板的制造方法及制造装置与电子装置
摘要 利用喷墨头的扫描制造滤色片等光学构件时,使得喷墨头的全部喷嘴能准确地通过像素的形成区域,提高来自喷嘴的喷墨位置的精度,提高喷嘴的使用效率(从而描绘效率),防止每个像素的颜色离散,使光学构件的光学特性在平面上均匀化。本发明的课题是一种利用备有喷嘴(27)的多个喷墨头(22)对基板(2)进行主扫描及副扫描的滤色片(1)的制造方法。假设多个喷墨头(22)中相邻的喷墨头(22)位于各自最端部的喷嘴(27)之间的相互间隔为W,喷嘴(27)的恒定的排列间距为D时,W=mD(式中,m为2以上的整数)另外,假设喷头22的副扫描移动间距为P时,P=nD(式中,n为1以上的整数)。
申请公布号 CN1717134A 申请公布日期 2006.01.04
申请号 CN200510084494.7 申请日期 2002.07.03
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 伊藤达也;有贺久;片上悟;川濑智己
分类号 H05B33/10(2006.01);B05B1/00(2006.01);G02B5/23(2006.01);G02F1/1335(2006.01) 主分类号 H05B33/10(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 叶恺东
主权项 1.一种电致发光基板的制造方法,其特征在于:包括:使按照规定的间距排列了多个喷嘴的多个喷头沿着喷头扫描方向移动,对基板进行主扫描的工序;沿着与上述喷头扫描方向交叉的喷头换行方向按照规定的移动间距移动,对上述基板进行副扫描的工序;以及从上述多个喷嘴将功能层形成材料喷射到上述基板上的功能层形成区域的工序,上述多个喷头中相邻的喷头位于各自最端部的上述喷嘴相互之间的间隔W及上述喷嘴的恒定的排列间距D实际上满足以下关系式: W=mD 式中,m为2以上的整数,上述喷头的副扫描移动间距P及上述喷嘴的恒定的排列间距D实际上满足以下关系式: P=nD 式中,n为1以上的整数。
地址 日本东京都