| 摘要 |
本发明主要系针对一般半导体加工制造过程中所产生废气，而设计之处理系统，该处理系统主要系设置于一般废气处理设备之一侧，内部主要包含有冷凝管、触煤处理单元、水处理单元以及集水箱，用以将经过一般废气处理设备中所残留而无法处理含有全氟化合物(Per Fluorine Compound简称PFC)之气体，藉由触媒处理单元将全氟化合物(PFC)等有毒气体分解为无毒性气体，再透过水处理单元将其解体后之副产物进行水处理，并且达到降温的功能，尔后再排出于大气中，进行再次处理的动作，以降低大气中PFC含量，减少温室效应伤害。 |
