发明名称 微影装置及元件制造方法
摘要 一种微影装置,包含:一辐射系统,其用于提供一投影辐射束;一第一支撑结构,其用于支撑图案形成器件,该图案形成器件用于依照一所要图案来图案化该投影束;一第二支撑结构,其用于支撑一基板;及一投影系统,其用于将该具图案之投影束投影在该基板之一目标部分上;至少一气体产生结构,其用以在一延伸于该下方表面与该基板之间之体积中产生一经调整之气流。该气体产生结构被配置成可产生一气流,其被导向一大致定位在该投影系统之一下方表面上方之上方体积。该结构进一步包含一导引元件,其用以将该气流导引至一大致定位在该投影系统之下方表面下方之下方体积。
申请公布号 TW200600979 申请公布日期 2006.01.01
申请号 TW094115266 申请日期 2005.05.11
申请人 ASML公司 发明人 尼可拉斯 爱尔班 莱利曼特;马汀勒斯 可尼莉丝 马里亚 弗汉;CORNELIS MARIA;麦塞尔 麦卡尔斯;罗兰德 史杜汀斯;派斯克 安东尼斯 史密斯;沃拉德密尔 法兰希克斯 吉拉德斯 马里亚 贺陶吉;HERTOG, WLADIMIR FRANSISCUS GERARDUS MARIA;大卫 赛德拉斯 威力 凡 德 派拉斯;THEODORUS WILLY;史蒂芬 柯林卡;汉克 可拉斯
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰