| 摘要 |
本发明揭示一种蚀刻装置，其包括：一经装配以传输一辐射光束之照明系统，该辐射光束包含具有一预定波长或一预定波长范围之所要辐射及具有另一波长或另一波长范围之不当辐射；一经装配以支撑一图案化结构之支撑结构，该图案化结构经装配以赋予该辐射光束之横截面一图案；一经装配以固持一基板之基板台；及一经装配以投影该图案化辐射光束至该基板之一目标区域上之投影系统；其中该蚀刻装置之至少一部分在使用中系包括一气体，该气体对该所要辐射之至少一部分而言大体上具有透射性且对该不当辐射之至少一部分而言大体上具有较小之透射性。 |
