发明名称 正向可光成像之底部抗反射涂层
摘要 本发明系关于一种正向底部可光成像之抗反射涂层组合物,其能够于硷性显影剂水溶液中显影,其中该抗反射涂层组合物包含:聚合物,其包含至少一具有发色团之重复单元,及一具有一羟基及/或一羧基之重复单元;乙烯醚终端之交联剂;及视情况之光酸产生剂及/或酸及/或热酸产生剂。本发明进一步系关于一种使用此组合物之方法。
申请公布号 TW200600974 申请公布日期 2006.01.01
申请号 TW094106806 申请日期 2005.03.07
申请人 AZ电子材料公司 发明人 隋郁;吴恒鹏;康文兵;马克O 奈瑟斯;片山朋英;丁术季;菱田有高;乔瑟夫E 欧伯蓝德;麦德哈特A 桃奇
分类号 G03F7/09 主分类号 G03F7/09
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本