| 摘要 |
本发明提供一种在突出于基材上面的突部固定有磨粒之CMP调整器，其系稳定地固定磨粒，以防止因磨粒的脱落而造成刮伤的发生等，并且确实地确保在修整时在磨粒周围的突部突端面与研磨垫之间保持磨削液的空间。本发明之CMP调整器，系在绕着轴线旋转的基材(1)的上面(2)形成有由其上面(2)突出的突部(3、4)，在此突部(3、4)固定有复数个磨粒(5)而构成者，其中，在朝突部(3、4)的突出方向的突端面(3A、4A)上，以不由此突端面(3A、4A)的周缘(3C、4C)延伸至轴线方向的假想延长面(P)突出之方式固定磨粒(5)。 |
