具有抗雷射导致伤害之合成矽石玻璃光学材料

摘要

本发明揭示出合成矽石玻璃光学材料，该材料能够抵抗紫外线波长范围内之辐射线光学损坏，特别是波长小于250nm，其呈现出低雷射导致之波前扭曲，其经过操作于193nm以及照射度为70微焦耳／平方公分之100亿次雷射脉冲后在633nm下量测呈现出之波前扭曲在–1.0及1.0nm／／cm之间。本发明合成矽石玻璃光学材料含有OH浓度小于600ppm，优先地小于200ppm，以及H2浓度值小于5.0x10^17分子／立方公分，以及优先地小于2.0x10^17分子／立方公分。