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发明名称
具多晶方向之CMOS逻辑闸及其形成方法CMOS LOGIC GATE FABRICATED ON HYBRID CRYSTAL ORIENTATIONS AND METHOD OF FORMING THEREOF
摘要
本发明系一种使用SOI与混合基材方向形成CMOS元件之方法。依照本发明之一较佳实施例,基材可具有多种结晶方向。基材中之逻辑闸可包括位于一结晶方向上之至少一N-FET及位于另一结晶方向上之至少一P-FET。基材中之另一逻辑闸可包括位于相同结晶方向上之至少一N-FET及至少一P-FET。而在本发明之其他较佳实施例中,则更包括确定基材之较佳分裂平面,以及定位相对于彼此之基材,以考量其之个别较佳分裂平面。其中,分裂平面较佳的系不平行。
申请公布号
TW200601498
申请公布日期
2006.01.01
申请号
TW094117578
申请日期
2005.05.27
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
陈宏玮;吴炳坤;王昭雄;杨富量;胡正明
分类号
H01L21/8238
主分类号
H01L21/8238
代理机构
代理人
蔡坤财
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号
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