| 主权项 |
1.一种光阻剂涂布方法,系在光平版印刷(photo- lithography)制程将光阻剂液涂布在被处理基板上的 光阻剂涂布方法,具有: 在上述基板上,设定实质上分开独立的复数个涂布 领域的制程; 对上述基板,限定在上述涂布领域涂布光阻剂液的 制程;及 对涂布有上述光阻剂液的基板进行乾燥处理的制 程。 2.如申请专利范围第1项所述之光阻剂涂布方法,其 中 在上述涂布领域内,以大致上一定的膜厚度覆盖整 个领域状,涂布上述光阻剂。 3.如申请专利范围第1项或第2项所述之光阻剂涂布 方法,其中 上述基板是平面面板显示器用的划分多片型母基 板,在上述涂布领域设定制程,对应上述基板上的 各面板领域设定上述涂布领域。 4.如申请专利范围第1项或第2项所述之光阻剂涂布 方法,其中 上述基板是每一像素均具有薄膜电晶体(TFT)的TFT 液晶显示器用的基板,在上述涂布领域设定制程, 对应上述基板上的各TFT领域设定上述涂布领域。 5.如申请专利范围第1项或第2项所述之光阻剂涂布 方法,其中 上述基板是每一像素均具有红色、绿色或蓝色的 着色层的彩色滤光器用的基板,在上述涂布领域设 定制程,按各个着色层,对应上述基板上的各像素 领域设定上述涂布领域。 6.一种光阻剂涂布装置,具备有: 由分开一定间隔配置,能够分别独立控制光阻剂液 吐出动作的复数个喷嘴部,所构成的光阻剂喷嘴头 ; 令上述光组剂喷嘴头,对着处理基板相对扫描移动 的扫描手段; 在上述基板上,设定实质上分开独立的复数个涂布 领域的涂布领域设定手段; 控制上述光阻剂喷嘴头的上述喷嘴部的光阻剂液 吐出动作,对上述基板,限定在上述涂布领域涂布 光阻剂液的光阻剂液吐出控制手段;及 对涂布有上述光阻剂液的基板进行乾燥处理的乾 燥手段。 7.如申请专利范围第6项所述之光阻剂涂布装置,其 中 上述扫描手段具有:可令上述光阻剂喷嘴头,对上 述基板向垂直于上述喷嘴部的排列方向的第1方向 相对移动的第1扫描部;及令上述光阻剂喷嘴头,对 上述基板向平行于上述喷嘴部的排列方向的第2方 向相对移动的第2扫描部。 8.如申请专利范围第6项所述之光阻剂涂布装置,其 中 具有,可将涂布在上述基板上的光阻剂液,在涂布 后立即加热使其乾燥的乾燥手段,而藉由上述扫描 手段使上述乾燥手段与上述光阻剂喷嘴头一起扫 描移动。 9.如申请专利范围第6~8项中任一项所述之光阻剂 涂布装置,其中 上述基板是平面面板显示器用的划分多片型母基 板,由上述涂布领域设定手段,对应上述基板上的 各面板领域设定上述涂布领域。 10.如申请专利范围第6~8项中任一项所述之光阻剂 涂布装置,其中 上述基板是每一像素均具有薄膜电晶体(TFT)的TFT 液晶显示器用的基板,由上述涂布领域设定手段, 对应上述基板上的各TFT领域设定上述涂布领域。 11.如申请专利范围第6~8项中任一项所述之光阻剂 涂布装置,其中 上述基板是每一像素均具有红色、绿色或蓝色的 着色层的彩色滤光器用的基板,由上述涂布领域设 定手段,对应上述基板上的各像素领域设定上述涂 布领域。 图式简单说明: 第1图是表示适用使用本发明涂布方向及涂布装置 的涂布显像处理系统的架构的平面图。 第2图是表示第1图的涂布显像处理系统的热处理 部的架构的侧面图。 第3图是表示第1图的涂布显像处理系统的处理程 序的流程图。 第4图是表示第1图的涂布显像处理系统的涂布系 处理单元群的主要部分的架构的平面图。 第5图是表示第1图的涂布显像处理系统的涂布系 处理单元群的主要部分的架构的侧面图。 第6图是表示一实施形态的光阻剂涂布单元的扫描 机构的架构的斜视图。 第7图是表示实施形态的光阻剂涂布单元的光阻剂 喷嘴头的架构例子的纵向截面图。 第8图是表示实施形态的用以控制光阻剂喷嘴头的 光阻剂液喷出动作的控制部的构成例子的方块图 。 第9图是以模式方式表示第1实施例的光阻剂涂布 处理的一个阶段的大略平面图。 第10图是以模式方式表示第1实施例的光阻剂涂布 处理的一个阶段的大略平面图。 第11图是以模式方式表示结束第1实施例的光阻剂 涂布处理时的状态的大略平面图。 第12图是以模式方式表示第1实施例的光阻剂一涂 布图型的一变形例子的大略平面图。 第13图是以模式方式表示第1实施例的光阻剂涂布 图型的一变形例子的大略平面图。 第14图是以模式方式表示第2实施例的TFT-LCD的阵列 基板的架构的大略平面图。 第15图是表示第2实施例的光阻剂涂布图型的大略 平面图。 第16图是表示第2实施例的光平版印刷制程的大略 截面图。 第17图是表示第3实施例的光平版印刷制程的大略 截面图。 第18图是表示实施形态的在光阻剂涂布单元配设 乾燥手段(加热器)的架构的大略平面图。 第19图是表示实施形态的在光阻剂涂布单元配设 乾燥手段(加热器)的架构的大略侧面图。 |
