发明名称 高效率矩阵发光二极体元件
摘要 一种高效率矩阵发光二极体元件,主要系以一磊晶晶片为基材,于其上以积体电路方式制作复数独立绝缘之发光二极体,并于每一发光二极体上设有连接导线,形成一提高亮度之大尺寸矩阵发光二极体单体,可有效精简制程与节省成本;同时,并配设一内含双向二极体的基板,而将该矩阵发光二极体单体安装在基板上时,该双向二极体系可保护发光二极体,避免静电破坏,以令发光二极体之寿命延长者。
申请公布号 TWM285036 申请公布日期 2006.01.01
申请号 TW094205204 申请日期 2005.04.04
申请人 鼎元光电科技股份有限公司 发明人 邓及人;周文隆;黄国瑞
分类号 H01L33/00 主分类号 H01L33/00
代理机构 代理人 蔺超群 台北市大安区罗斯福路2段95号25楼
主权项 1.一种高效率矩阵发光二极体元件,主要系在一磊 晶晶片基材上以积体电路制作方式制作出复数独 立绝缘之发光二极体,并于每一发光二极体上蒸镀 有连接导线,该连接导线以并联或串联方式连接各 个发光二体,形成一有效精简制程与节省成本之矩 阵发光二极体单体者。 2.如申请专利范围第1项所述之高效率矩阵发光二 极体元件,其中,该矩阵发光二极体单体并配设一 基板者。 3.如申请专利范围第1或2项所述之高效率矩阵发光 二极体元件,其中,该矩阵发光二极体单体系藉金 属凸块为接点,利用超音波接合方式,反转安装在 基板上者。 4.如申请专利范围第1项所述之高效率矩阵发光二 极体元件,其中,该发光二极体之绝缘层系可为SiOx 、SiNx、Al2O3或ATiN其中任一种或组合。 5.如申请专利范围第1项所述之高效率矩阵发光二 极体元件,其中,该连接导线系以金属镀层方式蒸 镀而成,且该连接导线可为Au、Al、Ti、Pt、Cr、Ni、 W或Cu其中任一种或组合。 6.如申请专利范围第1项所述之高效率矩阵发光二 极体元件,其中该复数发光二极体的P型电极与N型 电极系为高热传导系数且低电阻之金属,可为Au、 Al、Ti、Pt、Cr、Ni、Ag或Cu其中任一种或组合。 7.如申请专利范围第2项所述之高效率矩阵发光二 极体元件,其中该基板系为Silicon、AlN、BeO其中任 一种材质,该基板内系设有具保护发光二极体、避 免发光二极体受静电破坏,并可使用交流电源之双 向二极体,且该基板的顶、底部并设有导热金属者 。 8.如申请专利范围第1项所述之高效率矩阵发光二 极体元件,其中,该复数发光二极体为具有P型及N型 的Ⅲ-Ⅴ之半导体化合物者。 9.如申请专利范围第7项所述之高效率矩阵发光二 极体元件,其中该基板的导热金属系为高热传导系 数金属,可为Au、Al、Ti、Pt、Cr、Ni、W、Ag或Cu其中 任一种或组合。 10.如申请专利范围第7项所述之高效率矩阵发光二 极体元件,其中该基板内之双向二极体系以离子植 入方式或离子扩散方式形成者。 11.如申请专利范围第1项所述之高效率矩阵发光二 极体元件,其中该磊晶晶片基材系为透明者。 图式简单说明: 第1图系为本创作矩阵发光二极体单体之立体外观 图。 第2图系为本创作矩阵发光二极体单体之剖面示意 图。 第3图系为本创作基板之剖面示意图。 第4图系为第3图之俯视图。 第5图系为矩阵发光二极体单体结合于基板之剖面 示意图。 第6图系为本创作使用直流电源之等效电路图。 第7图系为本创作使用交流电源之等效电路图。
地址 新竹市新竹科学工业园区工业东四路16号