发明名称 光罩片清洗旋转机构
摘要 本创作系提供一种「光罩片清洗旋转机构」,专指一种以「承载旋转并配合喷剂暨气流气场」进而实施旋性清洗机能之旋转机构创作案;其主要实施对象与范围系包括:光罩片、晶元片或是科技性之平面(光面)材质暨光学玻璃…等,以将表面微尘颗粒或化学沾剂…等,在以旋转机构所施之离心力与喷式洗剂辅助下,即可彻底去除被清洗物表面之沾剂(喷墨),以恢复被清洗物原本表面之光整度者。
申请公布号 TWM285024 申请公布日期 2006.01.01
申请号 TW094216669 申请日期 2005.09.28
申请人 微硕自动化股份有限公司 发明人 邱显忠;许玮隆;陈建福;陈琼惠;赖彦谷;林翔伟;锺明志
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人
主权项 1.一种「光罩片清洗旋转机构」,主要系由:一护围 框、一承置平台、一轴套、上、下各一之调芯子 、上承置轴座、下承置轴座、动力机构、一转轴 、往复位移机构及承架各主要构件所组成;其中: 一护围框--系供承置平台于洗净程序中供予保护 之元件,呈框式圆体态样者; 一承置平台--系与转轴组接由转轴带动进行旋转 运动,平台则由分岔式基架所组成,每一基架外端, 均设有若干个定位梢,以能嵌固被洗物者; 一轴套--系位于上、下承置轴座间,轴套中孔开设 呈多槽道结构,以对应于转轴之槽道结构,以令往 复位移机构实施上、下滑合位移运动者;上、下各 一调芯子--系位于上、下承置轴座处各一,并令转 轴贯穿以能进行调整转轴之旋转中心度; 上、下承置轴座--系为锁固性之元件,以定位于转 轴、轴套与调芯子; 动力机构--系采以外接动力方式与轴套接合,以将 旋转性动力传递于轴套; 一转轴--顶端与承置平台组接,经由贯穿各组件后, 尾端则由往复位移机构所承接; 往复位移机构--系以动力方式顶举于转轴,俾令转 轴形成为上、下位移性运动者。 2.依申请专利范围第1项所述一种「光罩片清洗旋 转机构」,其中承置平台定位梢之梢顶,系可覆固 具耐酸、硷性之定位胶片者。 3.依申请专利范围第1项所述一种「光罩片清洗旋 转机构」,其中动力机构系以齿状皮带与轴套囓合 者。 4.依申请专利范围第1项所述一种「光罩片清洗旋 转机构」,其中往复位移机构与转轴之承接,系以 轴承固定于转轴之尾端者。 图式简单说明: 第一图:系本创作实施例之立体外观示意图。 第二图:系本创作各部元件分解结构示意图。 第三图:系本创作整体剖视结构示意图。 第四图:系第三图圈框部之放大结构示意图。 第五图:系本创作转轴与轴套两者间之断面结构示 意图。 第六图:系本创作俯视平面结构示意图。 第七图:系本创作以剖视结构表现其运动状态示意 图。
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