发明名称 利用臭氧加强光触媒氧化程序之有机气体处理装置
摘要 本创作系提供一种利用臭氧加强光触媒氧化程序之有机气体处理装置,其创作特点主要系结合一臭氧产生器及一光触媒产生机体,其中该光触媒产生机体外部为一可密闭式壳体,设有一进气口及一排气口,以使臭氧产生器组设于该进气口之预定区段处,该壳体内部藉由隔板区隔形成数隔层空间,且各隔层空间中系叠置有预定数量之波浪形板,藉由各波浪形板错位叠置间产生之空隙以形成气体通道,又所述波浪形板之表面涂覆有光触媒材料,以使壳体至少一侧设成透光面,并于该透光面对应处进一步组设紫外线光源装置,藉以使前述各波浪形板表面涂覆之光触媒材料经该紫外线光源装置照射后得产生分解有机气体之作用者;藉此所构组成之创新有机气体处理装置,俾可以最小体积空间创造最大之分解处理量,进以符合多元之使用需求者。
申请公布号 TWM284437 申请公布日期 2006.01.01
申请号 TW094216573 申请日期 2005.09.26
申请人 张渊宏;刘瑞文;董正釱 高雄市左营区文瑞路27号9楼 发明人 张渊宏;刘瑞文;董正釱
分类号 B01D53/88 主分类号 B01D53/88
代理机构 代理人
主权项 1.一种利用臭氧加强光触媒氧化程序之有机气体 处理装置,其系包括一臭氧产生器及一光触媒产生 机体;其中,该光触媒产生机体外部为一可密闭式 壳体,设有一进气口及一排气口,以使前述臭氧产 生器组设于该进气口之预定区段处,又该壳体内部 系藉由隔板区隔形成数隔层空间,且各隔层空间中 系叠置有预定数量之波浪形板,藉由各波浪形板错 位叠置间产生之空隙以形成气体通道,又所述波浪 形板之表面涂覆有光触媒材料,以使壳体至少一侧 设成透光面,并于该透光面组设有紫外线光源装置 者。 2.依据申请专利范围第1项所述之利用臭氧加强光 触媒氧化程序之有机气体处理装置,其中该壳体内 部之隔板可为横向设置型态,藉以构成上、下楼层 式之隔层空间,复于隔板预定处留设穿气孔以连通 各隔层空间。 3.依据申请专利范围第1项所述之利用臭氧加强光 触媒氧化程序之有机气体处理装置,其中该壳体内 部之隔层空间中更可设置有间隔错置之隔间板,藉 以创造出曲折状空间型态者。 4.依据申请专利范围第1项所述之利用臭氧加强光 触媒氧化程序之有机气体处理装置,其中该所述透 光面系可设成一可开启式门框型式者。 5.依据申请专利范围第1或3项所述之利用臭氧加强 光触媒氧化程序之有机气体处理装置,其中该所述 透光面外部更可组设有一不透光之外门板者。 6.依据申请专利范围第1项所述之利用臭氧加强光 触媒氧化程序之有机气体处理装置,其中该紫外线 光源装置可为:紫外光发光二极体、紫外光灯泡、 紫外光氙气灯管者。 图式简单说明: 第1图:系本创作之立体图一,系为其外门板关闭状 态。 第2图:系本创作之组合图二,系为其外门板开启状 态。 第3图:系本创作之波浪形板部位放大立体图。 第4图:系本创作之波浪形板部位放大平面图,用以 说明波浪形板表面涂覆有光触媒材料之状态。 第5图:系本创作触媒产生机体之其中一隔层空间 之横向剖视图。 第6图:系本创作触媒产生机体内部结构之立向剖 视图。 第7图:系本创作触媒产生机体内部结构之另一剖 向之立向剖视图。 第8图:系本创作之应用实施例图。 第9图:系本创作触媒产生机体为双透光面、外门 板之实施例图。
地址 彰化县永靖乡光云村光云巷263弄45号