用于稳定电浆处理之方法及设备

摘要

本发明系提供一种使用空间修正电浆以蚀刻基板之方法及设备。在一实施例中，该方法包括提供具有电浆稳定器之制程室，该电装稳定器设置于基板支撑件上。一基板主放于该支撑件上。一种制程气体被导入该制程室中，而一电浆由该制程气体中形成。该基板由一电浆蚀刻，该电装之离子与自由基密度比由该电浆稳定器决定之。