| 主权项 |
1.一种水性组成物,其包含阴离子性有机聚合物颗 粒及胶态阴离子性氧化矽基底颗粒,该阴离子性有 机聚合物颗粒系藉由使一种或多种烯键式不饱和 单体与一种或多种多官能支化剂及/或多官能交联 剂聚合而制得,该阴离子性有机聚合物颗粒及胶态 阴离子性氧化矽基底颗粒系以该水性组成物总重 之至少0.01重量%存于该水性组成物中,该胶态阴离 子性氧化矽基底颗粒为氧化矽、经铝改质之氧化 矽或经胺改质之氧化矽且具有在300至1000平方公尺 /克范围内的比表面积,该胶态阴离子性氧化矽基 底颗粒在与阴离子性有机聚合物颗粒混合前,系含 于S値在12至45%范围内的溶胶中。 2.根据申请专利范围第1项之水性组成物,其特征在 于该胶态阴离子性氧化矽基底颗粒与该阴离子性 有机聚合物颗粒之重量比为20:1至1:50。 3.根据申请专利范围第1或2项之水性组成物,其特 征在于该胶态阴离子性氧化矽基底颗粒为经铝改 质之氧化矽。 4.根据申请专利范围第1或2项之水性组成物,其特 征在于该胶态阴离子性氧化矽基底颗粒为经胺改 质之氧化矽。 5.根据申请专利范围第1或2项之水性组成物,其特 征在于该阴离子性有机聚合物颗粒包括一种或多 种选自下列之单体:(甲基)丙烯酸、烷基(甲基)丙 烯酸、磺烷基(甲基)丙烯酸、不饱和二羧酸、磺 酸化之苯乙烯、磺烷基(甲基)丙烯醯胺、丙烯醯 胺、N-烷基丙烯醯胺、N,N-二烷基丙烯醯胺、甲基 丙烯醯胺系、乙酸乙烯酯、丙烯、N-乙烯基甲 基乙醯胺及N-乙烯基咯烷酮及彼等酸之盐。 6.根据申请专利范围第1或2项之水性组成物,其特 征在于该多官能支化剂及/或多官能交联剂具有至 少两个烯键式不饱和键、一个烯键式不饱和键与 一个反应性基、或两个反应性基。 7.一种制备水性组成物的方法,其包括使胶态阴离 子性氧化矽基底颗粒与阴离子性有机聚合物颗粒 混合(该阴离子性有机聚合物颗粒系藉由使一种或 多种烯键式不饱和单体与一种或多种多官能支化 剂及/或多官能交联剂聚合而制得),从而获得一种 水性组成物,其中所含之胶态阴离子性氧化矽基底 颗粒与阴离子性有机聚合物颗粒系以该水性组成 物总重之至少0.01重量%存于该水性组成物中,该胶 态阴离子性氧化矽基底颗粒为氧化矽、经铝改质 之氧化矽或经胺改质之氧化矽且具有在300至1000平 方公尺/克范围内的比表面积,该胶态阴离子性氧 化矽基底颗粒在与阴离子性有机聚合物颗粒混合 前,系含于S値在12至45%范围内的溶胶中。 8.根据申请专利范围第7项之方法,其特征在于该胶 态阴离子性氧化矽基底颗粒在与阴离子性有机聚 合物颗粒混合前,系含于S値在15至40%范围内的溶胶 中。 9.如申请专利范围第7或8项之方法,其特征在于该 阴离子性有机聚合物颗粒之电荷数为至少2毫当量 /克。 10.如申请专利范围第7或8项之方法,其特征在于该 阴离子性有机聚合物颗粒系含于分散液中。 11.一种水性组成物,其可藉由如申请专利范围第8 或9项之方法制得。 12.一种由含有纤维素纤维及视需要添加之填充剂 的水性悬浮液造纸之方法,该方法包括将阳离子性 聚合物及如申请专利范围第1、2、3、4、5或6项中 任一项之水性组成物添加于该纤维悬浮液。 13.如申请专利范围第12项之方法,其特征在于在添 加该阳离子性有机聚合物以前添加含铝化合物。 14.一种纸,其可藉由如申请专利范围第12或13项之 方法制得。 15.一种如申请专利范围第1、2、3、4、5或6项中任 一项之水性组成物的用途,该水性组成物系于使悬 浮污土脱水或于水、废水或废污泥之处理中用作 絮凝剂。 16一种如申请专利范围第1、2、3、4、5或6项中任 一项之水性组成物的用途,该水性组成物系用作造 纸时之排水及/或保留助剂。 |
