| 主权项 |
1.一种使用来自光源之光照明物体表面的照明光 学系统,该照明光学系统包含一用以将来自光源之 光导引至物体表面的聚光器光学系统, 其中,该聚光器光学系统包含第一及第二光学系统 ,第一及第二光学系统之其中一者形成一用以改变 入射光之直径的光束扩展器光学系统,该光束扩展 器光学系统适合做为一沿着光轴而移动的元件。 2.如申请专利范围第1项之照明光学系统,其中,满 足条件∣f2/fl∣≦2.5,其中,fl为该光束扩展器光学 系统的焦距,且f2为第一及第二光学系统之另一者 的焦距,其并不形成该光束扩展器光学系统。 3.如申请专利范围第1项之照明光学系统,另包含多 光源形成部件,用以形成来自光源之光的多个光源 , 其中,该光束扩展器光学系统系位于该聚光器光学 系统的入射侧,并将该多光源形成部件的出射端设 置于入射瞳孔位置处,且 其中,满足条件∣f2/P1∣≦1.0,其中,P1为该光束扩展 器光学系统的出射瞳孔距离,且f2为第一及第二光 学系统之另一者的焦距,其并不形成该光束扩展器 光学系统。 4.如申请专利范围第1项之照明光学系统,其中,该 照明光学系统系位于该聚光器光学系统的出射侧, 并将物体表面设置于入射瞳孔位置处,且 其中,满足条件∣f2/P1∣≦1.0,其中,Pl为该光束扩展 器光学系统的出射瞳孔距离,且f2为第一及第二光 学系统之另一者的焦距,其并不形成该光束扩展器 光学系统。 5.如申请专利范围第1项之照明光学系统,其中,满 足条件1.3≦H2/H1≦1.7或条件1.3≦H1/H2≦1.7,其中,当 和光轴平行且具有距离光轴的最大高度H1之光系 入射于该光束扩展器光学系统上,该光离开该光束 扩展器光学系统且具有H2的最大高度。 6.如申请专利范围第1项之照明光学系统,其中,该 光束扩展器光学系统系位于该聚光器光学系统的 入射侧,并且在入射侧处包含一凹透镜。 7.如申请专利范围第1项之照明光学系统,其中,该 光束扩展器光学系统系位于该聚光器光学系统的 出射侧,并且在出射侧处包含一凹透镜。 8.如申请专利范围第1项之照明光学系统,其中,该 光束扩展器光学系统包含一具有至少一非球面表 面的凹透镜。 9.如申请专利范围第1项之照明光学系统,其中,满 足条件; 0.97≦sin2/sin1≦1.03;及 0.98≦(sin1+sin2)/2sin0≦1.02,其中,0为介于入 射在物体表面上之轴向光的上部最大光线与光轴 间之角度的绝对値,1为介在主光线与会聚于物 体表面上之最大影像点之光的上部最大光线间之 角度,且2为介于主光线与下部最大光线间之角 度。 10.如申请专利范围第1项之照明光学系统,其中,第 一及第二光学系统之另一者,其并不形成该光束扩 展器光学系统,包含: 一位于该聚光器光学系统之最外侧的第一光学元 件; 一用来固持第一光学元件的第一镜筒; 一不同于第一光学元件之第二光学元件;以及 一用来固持第二光学元件的第二镜筒,该第二镜筒 系可分离地连接至该第一镜筒, 其中,满足条件0.02≦∣FA/f3∣≦0.2,其中,FA为该聚 光器光学系统的焦距,且f3为第一光学元件的焦距 。 11.如申请专利范围第1项之照明光学系统,另包含 一屏,用来界定一具有矩形形状之照明区域于物体 表面上, 其中,该屏包含两对屏蔽组件,各自界定一对矩形 形状的平行侧, 其中,当该聚光器光学系统系位于沿着光轴之可移 动范围的末端处时,该两对屏蔽部件的其中一对系 位于该聚光器光学系统的焦点位置。 12.如申请专利范围第1项之照明光学系统,另包含 一具有一出射端的光学积分器,该出射端实质上和 物体表面间具有傅立叶(Fourier)转换关系。 13.如申请专利范围第1项之照明光学系统,其中,被 定义做为(NA2/NA1-1)100之畸变的绝对値系小于3, 其中,NA1为将各影像点会聚于物体表面上之光的上 部最大光线之数値孔径,且NA2为将各影像点会聚于 物体表面上之光的下部最大光线之数値孔径。 14.如申请专利范围第1项之照明光学系统,其中,被 定义做为{(NA1+NA2)/2NA0-1}100之局部的绝对値系小 于2,其中,NA0为入射在物体表面上之轴向光的数値 孔径,NA1为将各影像点会聚于物体表面上之光的上 部最大光线之数値孔径,且NA2为将各影像点会聚于 物体表面上之光的下部最大光线之数値孔径。 15.一种使用来自光源之光照明物体表面的照明光 学系统,该照明光学系统包含一用以改变入射光之 直径,且用以修正物体表面上之远心的光束扩展器 光学系统,该光束扩展器光学系统适合做为一沿着 光轴而移动的元件。 16.一种曝光装置,包含: 一照明光学系统,用以使用来自光源之光照明光罩 ,该照明光学系统包含一用以将来自光源之光导引 至光罩的聚光器光学系统,其中,该聚光器光学系 统包含第一及第二光学系统,第一及第二光学系统 之其中一者形成一用以改变入射光之直径的光束 扩展器光学系统,该光束扩展器光学系统适合做为 一治着光轴而移动的元件;以及 一投射光学系统,用以将光罩上之图案投射于待曝 光物体上。 17.如申请专利范围第16项之曝光装置,其中,该投射 光学系统可以具有0.8或更高的数値孔径。 18.如申请专利范围第16项之曝光装置,另包含: 一移动机构,用以使光束扩展器光学系统做为一沿 着光轴而移动的元件; 一侦测器,用以侦测物体表面上之远心; 一记忆体,用以储存远心与光束扩展器光学系统之 移动量间的关系;以及 一控制器,用以根据由该侦测器所做的侦测结果来 控制由该移动机构所做之该光束扩展器光学系统 的移动量。 19.如申请专利范围第16项之曝光装置,另包含一用 以选择多种类型之照明条件的其中一者之选择器, 其中,该侦测器在选择器选择之后侦测物体表面上 的远心。 20.一种曝光装置,包含: 一用以使用来自光源之光照明光罩的照明光学系 统,该照明光学系统包括一用以将来自光源之光导 引至光罩的聚光器光学系统,其中,该聚光器光学 系统包含第一及第二光学系统,第一及第二光学系 统之其中一者形成一用以改变入射光之直径的光 束扩展器光学系统,该光束扩展器光学系统适合做 为一沿着光轴而移动的元件; 一用以将光罩上之图案投射于待曝光物体上的投 射光学系统;以及 一用以形成两个有效光源区域于投射光学系统之 瞳孔上的双极照明部件, 其中,满足下面的条件,其中,1为两个有效光源区 域之各者的内径,2为两个有效光源区域之各者 的外径,为介于两个有效光源区域与做为转动中 心之瞳孔中心间的极角,1为介在主光线与会聚 于物体表面上之最大影像点之光的上部最大光线 间之角度,且2为介于主光线与下部最大光线间 之角度: 0.7≦1≦1.0; 0.6≦2≦0.95; 10≦≦90;及 0.99≦sin2/sin1≦1.05。 21.一种装置制造方法,包含步骤: 使用曝光装置来使物体曝光;以及 使所曝光之物体显影, 其中,曝光装置包含: 一照明光学系统,用以使用来自光源之光照明光罩 ,该照明光学系统包含一用以将来自光源之光导引 至光罩的聚光器光学系统,其中,该聚光器光学系 统包含第一及第二光学系统,第一及第二光学系统 之其中一者形成一用以改变入射光之直径的光束 扩展器光学系统,该光束扩展器光学系统适合做为 一沿着光轴而移动的元件;以及 一投射光学系统,用以将光罩上之图案投射于待曝 光物体上。 22.一种装置制造方法,包含: 使用曝光装置来使物体曝光;以及 使所曝光之物体显影, 其中,曝光装置包含: 一用以使用来自光源之光照明光罩的照明光学系 统,该照明光学系统包括一用以将来自光源之光导 引至光罩的聚光器光学系统,其中,该聚光器光学 系统包含第一及第二光学系统,第一及第二光学系 统之其中一者形成一用以改变入射光之直径的光 束扩展器光学系统,该光束扩展器光学系统适合做 为一沿着光轴而移动的元件; 一用以将光罩上之图案投射于待曝光物体上的投 射光学系统;以及 一用以形成两个有效光源区域于投射光学系统之 瞳孔 上的双极照明部件, 其中,满足下面的条件,其中,1为两个有效光源区 域之各者的内径,2为两个有效光源区域之各者 的外径,为介于两个有效光源区域与做为转动中 心之瞳孔中心间的极角,1为介在主光线与会聚 于物体表面上之最大影像点之光的上部最大光线 间之角度,且2为介于主光线与下部最大光线间 之角度: 0.7≦1≦1.0; 0.6≦2≦0.95; 10≦≦90;及 0.95≦sin2/sin1≦1.05。 图式简单说明: 图1显示依据本发明实施例之照明光学系统的简化 光学路径。 图2显示在图1所示之照明光学系统中之聚光器光 学系统中的第一位置处之在子午线方向上的横向 像差、在弧矢(sagittal)方向上的横向像差、畸变 、及局部。 图3显示在图1所示之照明光学系统中之聚光器光 学系统中的第二位置处之在子午线方向上的横向 像差、在弧矢方向上的横向像差、畸变、及局 部。 图4显示依据本发明实施例之曝光装置的简化光学 路径。 图5显示依据本发明另一实施例之曝光装置的简化 光学路径。 图6系用以解释用来制造装置(半导体晶片,例如,ICs , LSIs等等、LCDs, CCDs等等)之方法的流程图。 图7系图6之步骤4中之晶圆程序的详细流程图。 |
