| 主权项 |
1.一种光记录基板之制造方法,其特征为: 在玻璃转移温度为120~190℃之范围、单程之双折射 延迟为+10nm~-10nm之范围、厚度0.35mm以下之有机高 分子板上,在减压环境下实施具有凹凸及/或沟之 表面的接触及加热冲压,而前述表面之凹凸及/或 沟为压模之凹凸及/或沟。 2.如申请专利范围第1项之制造方法,其中 对有机高分子板之至少和压模接触的一面实施粗 面化。 3.如申请专利范围第1或2项之制造方法,其中 在冲压台对有机高分子板及压模实施加热冲压,此 时,有机高分子板及冲压台之间、及/或压模及冲 压台之间会插入衬垫材料。 4.一种光记录媒体之制造方法, 利用如申请专利范围第1至3项之其中任一方法制 成之光记录基板,在转录着压模之凹凸及/或沟的 一面上,形成反射膜及/或记录膜。 5.一种光记录基板,其特征为: 以如申请专利范围第1至3项之其中任一方法制成 。 6.如申请专利范围第5项之光记录基板,其中 前述光记录基板为碟片。 7.一种光记录媒体,其特征为: 以如申请专利范围第4项之方法制成。 8.如申请专利范围第7项之光记录媒体,其中 前述光记录基板为碟片。 图式简单说明: 图1为以实施本发明方法为目的之光记录基板制造 步骤的说明图。 |
