发明名称 APPARATUS AND METHOD FOR INSPECTING MICROSTRUCTURES IN REFLECTED OR TRANSMITTED INFRARED LIGHT
摘要 <p>Zur Untersuchung von mikrostrukturierten Proben z.B. eines Wafers (28) werden bislang meist Untersuchungseinrichtungen und -verfahren eingesetzt, die im visuellen bzw. UV-Auflichtverfahren arbeiten. Um die Einsatzmöglichkeiten dieser Einrichtungen zu erweitern, d.h. insbesondere Strukturdetails darzustellen, die im VIS bzw. UV infolge Nichttransparenz von Abdeckschichten oder Zwischenmaterialien nicht sichtbar sind, z.B. von beidseitig strukturierten Wafern, wird im Auflicht IR-Licht verwendet und gleichzeitig eine IR- Durchlichtbeleuchtung (52) geschaffen, die u.a. eine deutliche Kontrastverbesserung des IR-Bildes bietet. Damit kann die Probe gleichzeitig im IR-Auf- und /oder Durchlicht und im VIS-Auflicht dargestellt werden.</p>
申请公布号 WO2005124422(A1) 申请公布日期 2005.12.29
申请号 WO2005EP52351 申请日期 2005.05.23
申请人 LEICA MICROSYSTEMS SEMICONDUCTOR GMBH;GRAF, UWE;DANNER, LAMBERT 发明人 GRAF, UWE;DANNER, LAMBERT
分类号 G01N21/35;G01N21/59;G01N21/95;G02B21/08;(IPC1-7):G02B21/08 主分类号 G01N21/35
代理机构 代理人
主权项
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