| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Positionieren und Justieren einer Ionenquelle. Gemäß einem Ausführungsbeispiel betrifft die Erfindung eine Vorrichtung zum Positionieren und Justieren einer Ionenquelle. Zu der Vorrichtung gehören: eine Grundplatte (11), eine mittlere Platte (12) und eine Deckelplatte (13), wobei die Deckelplatte (13) über wenigstens ein Justierelement (18, 19) an der mittleren Platte (12) angebracht ist, um die Deckelplatte (13) zu veranlassen, sich in eine erste Richtung zu bewegen, wobei das wenigstens eine Justierelement (18, 19) die Deckelplatte (13) in einer vorbestimmten Position bezüglich der mittleren Platte (12) positioniert; und die mittlere Platte (12) über eine Schneckenradanordnung (304) an die Grundplatte (11) gekoppelt ist, um die mittlere Platte (12) zu veranlassen, sich in eine zweite Richtung bezüglich der Grundplatte (11) zu bewegen.
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