发明名称 |
METHOD OF CHEMICAL MECHANICAL POLISHING IN A SEMICONDUCTOR DEVICE |
摘要 |
|
申请公布号 |
KR20050122640(A) |
申请公布日期 |
2005.12.29 |
申请号 |
KR20040048240 |
申请日期 |
2004.06.25 |
申请人 |
HYNIX SEMICONDUCTOR INC. |
发明人 |
LIM, TAE JUNG;SONG, PIL GEUN |
分类号 |
H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304 |
主分类号 |
H01L21/304 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|