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发明名称 Verfahren zum Lagern eines Halbleiterwafers nach seinem CMP-Polieren
摘要
申请公布号 DE10014071(B4) 申请公布日期 2005.12.29
申请号 DE2000114071 申请日期 2000.03.22
申请人 NEC ELECTRONICS CORP., KAWASAKI 发明人 AOKI, HIDEMITSU;YAMASAKI, SHINYA
分类号 H01L21/304;H01L21/00;H01L21/02;H01L21/321;H01L21/673;(IPC1-7):H01L21/302;B24B37/04 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
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