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发明名称 HIGH SELECTIVITY CMP SLURRY FOR STI PROCESS IN SEMICONDUCTOR MANUFACTURE
摘要
申请公布号 KR20050122754(A) 申请公布日期 2005.12.29
申请号 KR20040048390 申请日期 2004.06.25
申请人 CHEIL INDUSTRIES INC. 发明人 OH, CHANG IL;LEE, KIL SUNG;KIM, TAE KYU;KIM, WON LAE
分类号 H01L21/304;C09G1/02;C09K3/14;H01L21/3105;(IPC1-7):H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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