发明名称 一种二维测长单元
摘要 一种二维测长单元,包括位置检测装置和信号处理电路,其特征在于,所述位置检测装置包括与待测的X-Y平面固连在一起的正交衍射光栅和位于同一光路上的反射镜、激光器、直角棱镜、光学干涉放大系统和光电接收器。本发明采用正交衍射光栅作为二维位移测量传感器,使测量系统具有阿贝尔误差极小,分辨率极高的特点。正交衍射光栅与被测二维平面固连在一起,随被测二维平面一起移动,通过检测单元内光学系统、光电接收器件与其后的计数细分电路来准确测量相互正交的X、Y两个方向的位移。总之,该测长单元可广泛用于半导体与超精密加工的光刻技术、微制造、微机电系统、表面形貌测量及纳米级坐标测量等方面,其工作范围大、测量精度高。
申请公布号 CN1233983C 申请公布日期 2005.12.28
申请号 CN02147846.5 申请日期 2002.12.13
申请人 华中科技大学 发明人 郭军;王选择;谢铁邦
分类号 G01B11/04;G01B11/30 主分类号 G01B11/04
代理机构 华中科技大学专利中心 代理人 方放
主权项 1、一种二维测长单元,包括位置检测装置和信号处理电路,其特征在于,所述位置检测装置包括与待测的X-Y平面固连在一起的正交衍射光栅(1)和位于同一光路上的反射镜(2)、激光器(3)、直角棱镜(4)、光学干涉放大系统(5)和光电接收器(6);激光器发出的光束垂直入射到正交衍射光栅(1),经正交衍射光栅(1)衍射后分别入射到4个反射镜(2)上,经反射后两两汇聚于2套光学干涉放大系统(5)中发生干涉,并分别被其后的2个光电接收器(6)接收,再经其后的信号处理电路中的计数与A/D细分电路、得到在同一平面内相互正交的X、Y两个方向的位移。
地址 430074湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号