| 发明名称 | 阻气层合薄膜 | ||
| 摘要 | 一种阻气层合薄膜，包括树脂基片，及在其上层合的阻气蒸气沉积层和阻气覆盖层，其中阻气覆盖层通过涂布和干燥涂布液形成，所述涂布液包括：Si(OR<SUP>1</SUP>)<SUB>4</SUB>或其水解物、(R<SUP>2</SUP>Si(OR<SUP>3</SUP>)<SUB> 3</SUB>)<SUB>n</SUB>或其水解物(其中R<SUP>1</SUP>和R<SUP>3</SUP>各自是CH<SUB>3</SUB>、C<SUB>2</SUB>H<SUB>5</SUB>或C<SUB>2</SUB>H<SUB>4</SUB>OCH<SUB>3</SUB>；并且R<SUP>2</SUP>是有机官能团)和具有羟基的水溶性聚合物。 | ||
| 申请公布号 | CN1713983A | 申请公布日期 | 2005.12.28 |
| 申请号 | CN200380103536.6 | 申请日期 | 2003.11.21 |
| 申请人 | 凸版印刷株式会社 | 发明人 | 田中吏里;佐佐木昇 |
| 分类号 | B32B9/00 | 主分类号 | B32B9/00 |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 于辉 |
| 主权项 | 1、一种阻气层合薄膜，特征在于包括：树脂基片；阻气蒸气沉积层，它形成于所述树脂基片上并且主要含有无机化合物；和阻气覆盖层，它形成于所述阻气蒸气沉积层上；其中阻气覆盖层是通过涂布和干燥包括如下组分的涂布液而形成的：选自通式Si(OR1)4…(1)代表的硅化合物及其水解物的材料；选自通式(R2Si(OR3)3)n…(2)代表的硅化合物及其水解物的材料，其中R1和R3各自是CH3、C2H5或C2H4OCH3；并且R2是有机官能团；和具有羟基的水溶性聚合物。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||