| 发明名称 |
CIRCUIT INTEGRE COMPRENANT UN CONDENSATEUR A ELECRODES METALLIQUES ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN TEL CONDENSATEUR |
| 摘要 |
<P>La présente invention concerne un circuit intégré (CI) comprenant au moins un condensateur à électrodes métalliques dont une au moins des électrodes (10 ou 30) est formée de silicium ou d'un alliage de silicium à grains hémisphériques siliciuré au moins en surface.La présente invention concerne également un procédé de fabrication permettant d'obtenir un tel condensateur à électrodes métalliques siliciurées.</P>
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| 申请公布号 |
FR2871935(A1) |
申请公布日期 |
2005.12.23 |
| 申请号 |
FR20040006674 |
申请日期 |
2004.06.18 |
| 申请人 |
STMICROELECTRONICS CROLLES 2 SAS SOCIETE PAR ACTIONS SIMPLIFIEE;KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV |
发明人 |
HALIMAOUI AOMAR;EL FARHANE REBHA;FROMENT BENOIT |
| 分类号 |
H01L21/02;H01L29/92;(IPC1-7):H01L21/02 |
主分类号 |
H01L21/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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