发明名称 TAMPON DE POLISSAGE ET PROCEDE DE POLISSAGE D'UN SUBSTRAT MAGNETIQUE OPTIQUE OU A SEMI-CONDUCTEUR
摘要 La présente invention se rapporte un tampon de polissage (104, 300, 400, 500) pour polir une plaquette (112, 516) ou un autre article. Le tampon de polissage comprend une couche de polissage (108) ayant une région de polissage (164, 320, 420, 504) définie par des première et deuxième délimitations (168, 172), (312, 316), (412, 416), (508, 512) ayant des formes et des emplacements qui sont fonction de la dimension de la surface polie (116) de l'article poli et du type de polisseuse (100) utilisée. La région de polissage présente plusieurs zones (Z1-Z3) (Z1'-Z3') (Z1''-Z3'') (Z1'''-Z3''') contenant chacun des gorges correspondantes (148, 152, 156), (304, 308, 324), (404, 408, 424), (520, 524, 528) ayant des orientations choisies sur la base de la direction d'un ou plusieurs vecteurs de vitesse (V1-V4) (V1'-V4') (V1''-V4'') (V 1'''-V4''') de la plaquette de cette zone.
申请公布号 FR2871716(A1) 申请公布日期 2005.12.23
申请号 FR20050051614 申请日期 2005.06.14
申请人 ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS CMP HOLDINGS, INC 发明人 MULDOWNEY GREGORY P
分类号 B24D99/00;B24B1/00;B24B29/00;B24B29/02;B24B37/04;B24D11/00;B24D13/14;(IPC1-7):B24B29/02 主分类号 B24D99/00
代理机构 代理人
主权项
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