发明名称 Verfeinerungsvorrichtung für Siliciumreste unter Verwendung eines Elektronenstrahls
摘要 Eine Verfeinerungsvorrichtung für Siliciumreste unter Verwendung eines Elektronenstrahls, welche geeignet ist, um Siliciumreste, die während der Herstellung von Siliciumprodukten, wie z. B. Siliciumwafern, gebildet werden, zu recyceln, weist eine Vakuumkammer, einen in der Vakuumkammer angebrachten Tiegel, einen Herd, welcher in der Nähe des Tiegels in der Vakuumkammer angebracht ist und körnige Siliciumreste aufnimmt und die körnigen Siliciumreste durch Bestrahlung mit einem Elektronenstrahl schmilzt und geschmolzenes Silicium dem Tiegel zuführt, und eine Rohmaterialzuführvorrichtung, welche in der Vakuumkammer angebracht ist und eine vorgeschriebene Menge der körnigen Siliciumreste aufbewahrt und die aufbewahrten körnigen Siliciumreste über eine Rutsche zuführt, auf.
申请公布号 DE102005025427(A1) 申请公布日期 2005.12.22
申请号 DE200510025427 申请日期 2005.06.02
申请人 IIS MATERIALS CORPORATION LTD., TOKIO/TOKYO 发明人 YAMAUCHI, NORICHIKA;SHIMADA, TAKEHIKO
分类号 C01B33/037;(IPC1-7):C01B33/037 主分类号 C01B33/037
代理机构 代理人
主权项
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