| 主权项 |
1.一种改良由一微影系统处理的基板之一致性之方法,该微影系统具有用以曝光基板之曝光装置、用以在曝光前处理基板之前曝光装置、及用以在曝光后处理基板之后曝光装置,该方法包含:量测由该微影系统处理的基板之属性;基于预先指定的基板基本资料资讯来评估该等量测到的基板属性是否一致;一经判定该等量测到的基板属性不一致,便基于该等量测到的基板属性来计算校正性曝光资料,该等校正性曝光资料经组态以藉由调节该微影系统之该曝光装置中的曝光剂量来校正该等基板属性之不一致;及根据该等校正性曝光资料曝光基板。2.如请求项1之方法,其进一步包括将该等校正性曝光资料之集合储存为校正对应表。3.如请求项2之方法,其中校正性曝光资料之该计算包括,基于用于处理该等基板的该前曝光装置及该后曝光装置之特定装置之资讯而获得处理模组资讯,获得包括与用于处理该等基板的该前曝光装置及该后曝光装置之该特定装置相关联之资讯的度量衡资讯,判定曝光剂量增益因子,获得先前处理的基板之历史纪录,使该等校正对应表中每一校正对应表相关联于该处理模组资讯、该度量衡资讯、该基板历史纪录、该曝光剂量增益因子、及该等量测到的基板属性中至少一项,基于该处理模组资讯、该度量衡资讯、该基板历史纪录、该曝光剂量增益因子、及该等量测到的基板属性中至少一项来反覆计算并更新该等校正性曝光资料,其中该反覆的校正性曝光资料计算及更新持续进行直至判定该等基板属性为一致。4.如请求项3之方法,其进一步包括,藉由一逻辑机制监视并验证该等校正对应表相关性,及藉由该逻辑机制与该等校正对应表、该处理模组资讯、该度量衡资讯、该基板历史纪录、该曝光剂量增益因子、及该等量测到的基板属性中至少一项通讯。5.如请求项4之方法,其进一步包括,一经判定该等基板属性一致,便藉由该逻辑机制监视该等基板属性,及一经判定该等基板属性不再一致,便藉由该逻辑机制起始对校正性曝光资料计算及更新之调用。6.如请求项3之方法,其中该处理模组资讯进一步包括与由该前曝光装置及该后曝光装置之该特定装置所处理的该等基板之处理路径相关联的资料。7.如请求项5之方法,其中由该逻辑机制来控制该反覆的校正性曝光资料计算及更新、对该等基板属性之该监视、及对校正性曝光资料计算及更新之调用之该起始。8.如请求项3之方法,其中该判定曝光剂量增益因子包括判定每单位曝光剂量在该等基板之该等量测属性中的变化。9.如请求项7之方法,其进一步包括提供一使用者介面以传达相关于该曝光装置、该前曝光装置、该后曝光装置、该等校正对应表、该处理模组资讯、该度量衡资讯、该基板历史纪录、该曝光剂量增益因子、该等量测到的基板属性、及该逻辑机制中至少一项之资讯。10.如请求项2之方法,其进一步包括,基于用于处理该等基板之该前曝光装置及该后曝光装置之特定装置及处理路径之资讯而获得处理模组资讯,获得包括与用于处理该等基板之该前曝光装置及该后曝光装置之该特定装置相关联的资讯之度量衡资讯,判定曝光剂量增益因子,包括计算每单位曝光剂量在该等基板之该等量测到的属性中的变化,获得先前处理的基板之历史纪录,使该等校正对应表中每一校正对应表相关联于该处理模组资讯、该度量衡资讯、该基板历史纪录、该曝光剂量增益因子、及该等量测到的基板属性中至少一项,基于该处理模组资讯、该度量衡资讯、该基板历史纪录、该曝光剂量增益因子、及该等量测到的基板属性中至少一项来反覆计算及更新该等校正性曝光资料,及提供一逻辑机制,其中一经判定该等基板属性一致,该逻辑机制便监视、控制、并使该反覆的校正性曝光资料计算及更新持续进行直至判定该等基板属性为一致,且其中一经判定该等基板属性不再一致,该逻辑机制便起始对校正性曝光资料计算及更新的调用。11.一种改良基板之一致性的微影系统,其包含:经组态以曝光基板之曝光装置;经组态以在曝光之前处理基板的前曝光装置;以运作方式耦合至该曝光装置及复数个处理模组之轨道装置;经组态以在曝光之后处理基板的后曝光装置;一经组态以量测该等基板之属性之量测设备;及一校正性曝光模组,一经判定该等基板不一致其便基于该等量测到的属性来计算校正性曝光资料,其中该等校正性曝光资料经组态以藉由调节该曝光装置中的曝光剂量来校正该等基板中之不一致,且其中根据该等校正性曝光资料由该曝光装置来曝光该等基板。12.如请求项11之系统,其中该等校正性曝光资料之集合系作为校正对应表储存在一校正对应表库中。13.如请求项12之系统,其中该校正性曝光模组之校正性曝光资料之该计算包括,基于用于处理该等基板的该前曝光装置及该后曝光装置之特定装置之资讯而获得处理模组资讯,获得包括与用于处理该等基板之该前曝光装置及该后曝光装置之该特定装置相关联的资讯之度量衡资讯,判定曝光剂量增益因子,获得先前处理的基板之历史纪录,使该等校正对应表中每一校正对应表相关联于该处理模组资讯、该度量衡资讯、该基板历史纪录、该曝光剂量增益因子、及该等量测到的基板属性中至少一项,基于该处理模组资讯、该度量衡资讯、该基板历史纪录、该曝光剂量增益因子、及该等量测到的基板属性中至少一项来反覆计算及更新该等校正性曝光资料,其中该反覆的校正性曝光资料计算及更新持续进行直至判定该等基板属性为一致。14.如请求项13之系统,其进一步包括一逻辑机制以监视并验证该等校正对应表相关性,该逻辑机制经组态以与该等校正对应表、该处理模组资讯、该度量衡资讯、该基板历史纪录、该曝光剂量增益因子、及该等量测到的基板属性中至少一项通讯。15.如请求项14之系统,其中一经判定该等基板属性一致,该逻辑机制便监视该等基板属性,且一经判定该等基板属性不再一致,便起始对校正性曝光资料计算及更新之调用。16.如请求项13之系统,其中该处理模组资讯进一步包括与由该前曝光装置及该后曝光装置之该特定装置所处理的该等基板之处理路径相关联的资料。17.如请求项15之系统,其中由该逻辑机制来控制该反覆的校正性曝光资料计算及更新、对该等基板属性之该监视、及对校正性曝光资料计算及更新之调用之该起始。18.如请求项13之系统,其中该判定曝光剂量增益因子包括判定每单位曝光剂量在该等基板之该等量测到的属性中之变化。19.如请求项17之系统,其进一步包括一使用者介面以传达相关于该曝光装置、该前曝光装置、该后曝光装置、该等校正对应表、该处理模组资讯、该度量衡资讯、该基板历史纪录、该曝光剂量增益因子、该等量测到的基板属性、及该逻辑机制中至少一项之资讯。20.如请求项12之系统,其中对该校正性曝光模组之校正性曝光资料之该适应性计算包括,基于用于处理该等基板的该前曝光装置及该后曝光装置的特定装置及处理路径之资讯而获得处理模组资讯,获得包括与用于处理该等基板的该前曝光装置及该后曝光装置之该特定装置相关联之资讯的度量衡资讯,判定曝光剂量增益因子,包括计算每单位曝光剂量在该等基板之该等量测到的属性中之变化,获得先前处理过的基板之历史纪录,使该等校正对应表中每一校正对应表相关联于该处理模组资讯、该度量衡资讯、该基板历史纪录、该曝光剂量增益因子、及该等量测到的基板属性中至少一项,基于该处理模组资讯、该度量衡资讯、该基板历史纪录、该曝光剂量增益因子、及该等量测到的基板属性中至少一项来反覆计算并更新该等校正性曝光资料,及提供一逻辑机制,其中一经判定该等基板属性一致,该逻辑机制便监视、控制、并使该反覆的校正性曝光资料计算及更新持续进行直至判定该等基板属性为一致,且其中一经判定该等基板属性不再一致,该逻辑机制便起始对校正性曝光资料计算及更新的调用。21.一种电脑可读程式储存设备,其编码有指令,在由一电脑执行时,该电脑可读程式储存设备执行一改良由一微影系统所处理的基板之一致性的过程,该微影系统具有用以曝光基板之曝光装置、用以在曝光前处理基板之前曝光装置、及用以在曝光后处理基板之后曝光装置,该过程包含:量测由该微影系统处理的基板之属性;基于预先指定之基板基本资料资讯来评估该等量测到的基板属一性是否一致;一经判定该等量测到的基板属性不一致,便基于该等量测到的基板属性来计算校正性曝光资料,该等校正性曝光资料经组态以藉由调节该微影系统之该曝光装置中之曝光剂量来校正该等基板属性之不一致;及根据该等校正性曝光资料来曝光基板。22.如请求项21之电脑可读程式储存设备,其进一步包括将该等校正性曝光资料之集合储存为校正对应表。23.如请求项22之电脑可读程式储存设备,其中对校正性曝光资料之该计算包括,基于用于处理该等基板的该前曝光装置及该后曝光装置之特定装置之资讯而获得处理模组资讯,获得包括与用于处理该等基板之该前曝光装置及该后曝光装置之该特定装置相关联的资讯之度量衡资讯,判定曝光剂量增益因子,获得先前处理过的基板之历史纪录,使该等校正对应表之每一校正对应表相关联于该处理模组资讯、该度量衡资讯、该基板历史纪录、该曝光剂量增益因子、及该等量测到的基板属性中至少一项,基于该处理模组资讯、该度量衡资讯、该基板历史纪录、该曝光剂量增益因子、及该等量测到的基板属性中至少一项来反覆计算并更新该等校正性曝光资料,其中该反覆的校正性曝光资料计算及更新持续进行直至判定该等基板属性为一致。24.如请求项23之电脑可读程式储存设备,其进一步包括,藉由一逻辑机制监视并验证该等校正对应表相关性,及藉由该逻辑机制与该等校正对应表、该处理模组资讯、该度量衡资讯、该基板历史纪录、该曝光剂量增益因子、及该等量测到的基板属性中至少一项通讯。25.如请求项24之电脑可读程式储存设备,其进一步包括,一经判定该等基板属性一致,便由该逻辑机制监视该等基板属性,及一经判定该等基板属性不再一致,便由该逻辑机制起始对校正性曝光资料计算及更新的调用。26.如请求项23之电脑可读程式储存设备,其中该处理模组资讯进一步包括与由该前曝光装置及该后曝光装置之该特定装置所处理的该等基板之处理路径相关联的资料。27.如请求项25之电脑可读程式储存设备,其中由该逻辑机制来控制该反覆的校正性曝光资料计算及更新、对该等基板属性之该监视、及对校正性曝光资料计算及更新之调用之该起始。28.如请求项23之电脑可读程式储存设备,其中该判定曝光剂量增益因子包括判定每单位曝光剂量在该等基板之该等量测到的属性中之变化。29.如请求项27之电脑可读程式储存设备,其进一步包括提供一使用者介面以传达相关于该曝光装置、该前曝光装置、该后曝光装置、该等校正对应表、该处理模组资讯、该度量衡资讯、该基板历史纪录、该曝光剂量增益因子、该等量测到的基板属性、及该逻辑机制中至少一项的资讯。30.如请求项22之电脑可读程式储存设备,其进一步包括,基于用于处理该等基板之该前曝光装置及该后曝光装置之特定装置及处理路径之资讯而获得处理模组资讯,获得包括与用于处理该等基板之该前曝光装置及该后曝光装置之该特定装置相关联的资讯之度量衡资讯,判定曝光剂量增益因子,包括计算每单位曝光剂量在该等基板之该等量测到的属性中的变化,获得先前处理的基板之历史纪录,使该等校正对应表中每一校正对应表相关联于该处理模组资讯、该度量衡资讯、该基板历史纪录、该曝光剂量增益因子、及该等量测到的基板属性中至少一项,基于该处理模组资讯、该度量衡资讯、该基板历史纪录、该曝光剂量增益因子、及该等量测到的基板属性中至少一项来反覆计算并更新该等校正性曝光资料,及提供一逻辑机制,其中一经判定该等基板属性一致,该逻辑机制便监视、控制、并使该反覆的校正性曝光资料计算及更新持续进行直至判定该等基板属性为一致,且其中一经判定该等基板属性不再一致,该逻辑机制便起始对校正性曝光资料计算及更新的调用。图式简单说明:图1A为一微影系统之图解说明;图1B为一微影投影装置之图解说明;图2为描述本发明之一实施例之高级流程图;图3为描述本发明之一实施例之示意性功能方块图;图4A、4B说明了前曝光度量衡资料之实例;图4C、4D分别说明了用以判定用于过程之增益因子的典型剂量布局及每单位剂量之相应晶圆CD变化;图4E、4F分别说明了剂量偏移设定为零的典型剂量布局及晶圆CD之相应结果;且图4G、4H分别说明了典型最佳校正剂量布局及晶圆CD之相应结果。 |
