发明名称 电镀与非电镀交界面的处理方法
摘要 一种电镀与非电镀交界面的处理方法,适用于一塑胶元件之表面上,首先形成一防镀层于塑胶元件之表面,接着利用低功率雷射蚀刻去除部分防镀层,以形成欲镀表面和非电镀表面的交界面,最后再形成一表面金属层于塑胶元件之欲镀表面。其中,防镀层之利用可降低制程成本,且在品质方面,雷射蚀刻之利用可使电镀和非电镀的交界面周围轮廓美观且细致,兼具有高品质的质感。
申请公布号 TWI245817 申请公布日期 2005.12.21
申请号 TW092108083 申请日期 2003.04.09
申请人 宏达国际电子股份有限公司 发明人 黄哲宏;许锡兴
分类号 C25D5/56 主分类号 C25D5/56
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 1.一种电镀与非电镀交界面的处理方法,适用于一塑胶元件之表面上,至少包括下列步骤:形成一防镀层于该塑胶元件之局部表面;以及以雷射蚀刻该防镀层之周围轮廓以形成交界面,该雷射蚀刻之功率介于0.3W~0.8W;以及电镀该塑胶表面之其他局部表面,并形成一电镀层和该防镀层相接于该交界面上。2.如申请专利范围第1项所述之电镀与非电镀交界面的处理方法,其中形成该防镀层之方式包括涂布一防镀漆料。3.如申请专利范围第1项所述之电镀与非电镀交界面的处理方法,其中形成该防镀层之方式包括印刷一防镀漆料。4.如申请专利范围第1项所述之电镀与非电镀交界面的处理方法,其中形成该电镀层之方式包括:形成一表面种子层于该塑胶元件之其他局部表面;以及形成一表面金属层于该表面种子层上。5.如申请专利范围第4项所述之电镀与非电镀交界面的处理方法,其中形成该表面种子层的方式包括无电电镀法。6.如申请专利范围第4项所述之电镀与非电镀交界面的处理方法,其中形成该表面金属层的方式包括有电电镀法。7.如申请专利范围第4项所述之电镀与非电镀交界面的处理方法,其中形成该表面金属层的方式包括先形成一电镀铜层,再形成一电镀镍层以及一电镀锡层其中之一。图式简单说明:第1A~1C图依序绘示本发明一较佳实施例之一种电镀与非电镀交界面的处理方法的示意图。
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