| 主权项 |
1.一种微影装置,包含: -一照明系统,用以提供照射的一投射光束; -一支撑结构,用以支撑成型装置,该成型装置则作 为以其横截面阻挡投射光束; -一具有一基板架的基板台,用以支撑一基板,该基 板架包含多个凸出直立于一表面上及具有共面终 端,一壁环绕该凸出物及多个真空埠开孔至该壁所 环绕的空间;及 -一投射系统,用以投射该成型光束在该基板的一 目标部分,其特征在于 -该凸出物具有一不多于100m的高度及有10个以上 的真空埠,皆开孔在由该壁所环绕的空间之中央埠 内,该中央埠具有一不大于基板半径的70%的一半径 。 2.如申请专利范围第1项之微影装置,其中该等凸出 物之高度不小于60m。 3.如申请专利范围第2项之微影装置,其中该等凸出 物之高度系于70-80m范围。 4.如申请专利范围第1、2或3项之微影装置,其中该 等开孔朝向中央区域的真空埠之数目系于20-40之 间。 5.如申请专利范围第1、2或3项之微影装置,其中该 等开孔朝向一环状区域的真空埠具有一外径不大 于该基板半径的70%及一内径不小于基板半径的40% 。 6.一种元件制造方法,包含下列步骤: -提供一基板; -真空化基板间空间及一基板架固定该基板,该基 板架包含多个从一表面上直立的凸出物及具有实 质的共平面终端,一壁环绕该凸出物及多个真空埠 开孔向该壁所结合的空间; -使用一照明系统提供照射的一投射光束; -以一成型在其横截面使用成型装置以阻挡该投射 光束;及 -投射照明的成型光束在该基板的一目标部分,其 特征为 -各凸出物具有一不大于100m的高度且其有10或更 多真空埠并具所有开孔向由该壁所结合的空间之 一中央区域,该中央区域具有一不大于该基板的半 径的70%之半径。 7.一种基板架,包含多个凸出物自一表面直立及具 有实质的共平面终端,一壁环绕该凸出物及多个真 空埠开孔向该壁所结合的空间;其特征在于: 各凸出埠具有一高度不小于100m及至少10个或更 多真空埠配置在该壁所环绕的空间的一中央区域, 该中央区域具有一不大于该基板的半径的70%之半 径。 图式简单说明: 图1描述根据本发明的一显影装置; 图2是图1的装置之一基板架的一平面图; 图3是钳住一晶圆W的一基板架的一部份剖面图; 图4则展示图3的基板之下的真空压力; 图5则是钳住一凹晶圆之初始步骤之一基板架的一 部份剖面图;及 图6则图示图5内该晶圆下真空压力。 |
