| 主权项 |
1.一种湿式抗反射化合物薄膜之涂布方法,该方法 系包括下列步骤: (a)提供并清洗一基材; (b)提供一成膜液,该成膜液系由用以形成薄膜之化 合物溶于易挥发之溶剂内而组成; (c)在室温下将成膜液均匀涂布于基材表面,确认基 材表面之液体在室温下完全挥发后,即完成单层薄 膜之涂布而无须热处理;以及 (d)依需求重复步骤(c),以完成所需之涂布层数。 2.如申请专利范围第1项所述之湿式抗反射化合物 薄膜之涂布方法,其中该成膜液中用以形成薄膜之 化合物系为无机氧化物、氮化物、硫化物、硒化 物或氟化物。 3.如申请专利范围第1项所述之湿式抗反射化合物 薄膜之涂布方法,其中该成膜液中用以形成薄膜之 化合物系为固态氟化物。 4.如申请专利范围第3项所述之湿式抗反射化合物 薄膜之涂布方法,其中该固态氟化物系为氟化的Bi 、Ca、Ce、Na、Pb、Li、Mg、Nd、Ba或Th。 5.如申请专利范围第1项所述之湿式抗反射化合物 薄膜之涂布方法,其中步骤(c)系藉由浸渍涂布法而 实现,即将基材浸泡入成膜液中一定时间,随后藉 由提拉之方式或成膜液液面沈降之方式使基材脱 离成膜液。 6.如申请专利范围第5项所述之湿式抗反射化合物 薄膜之涂布方法,其中该基材系放置于可固定之篮 架内,利用等速升降之马达将该基材篮等速浸泡入 成膜液中再等速提起。 7.如申请专利范围第6项所述之湿式抗反射化合物 薄膜之涂布方法,其中将该基材篮从成膜液中等速 提起之速度控制为基材离开成膜液液面之瞬间溶 液即完全挥发。 8.如申请专利范围第1项所述之湿式抗反射化合物 薄膜之涂布方法,其中步骤(c)系藉由旋转涂布法而 实现,即将基材固定于旋转工具上,并将成膜液滴 入旋转工具内,藉由工具旋转产生之离心力使成膜 液均匀分布于基材表面。 9.如申请专利范围第1项所述之湿式抗反射化合物 薄膜之涂布方法,其中步骤(c)系藉由喷溅涂布法而 实现,即将基材安置后,利用活动制具配合基材外 形将成膜液均匀喷洒于基材表面。 10.如申请专利范围第1项所述之湿式抗反射化合物 薄膜之涂布方法,其中步骤(c)系藉由涂擦涂布法而 实现,即将基材安置后,利用活动制具将成膜液均 匀涂擦于基材表面。 11.如申请专利范围第1项所述之湿式抗反射化合物 薄膜之涂布方法,其中,各涂布层系使用相同之成 膜液。 12.如申请专利范围第1项所述之湿式抗反射化合物 薄膜之涂布方法,其中该基材系为光学基片。 13.如申请专利范围第12项所述之湿式抗反射化合 物薄膜之涂布方法,其中该光学基片系为塑胶镜片 或玻璃镜片。 14.一种湿式抗反射化合物薄膜之涂布方法,该方法 系包括下列步骤: (a)提供并清洗一基材; (b)提供一成膜液,该成膜液系由用以形成薄膜之化 合物溶于易挥发之溶剂内而组成; (c)在室温下将基材浸泡入成膜液中一定时间; (d)以一定速度使基材脱离成膜液,该速度控制为基 材离开成膜液液面之瞬间溶液即完全挥发,即此完 成单层薄膜之涂布而无须热处理;以及 (e)依需求重复步骤(c)与(d),以完成所需之涂布层数 。 15.如申请专利范围第14项所述之湿式抗反射化合 物薄膜之涂布方法,其中该成膜液中用以形成薄膜 之化合物系为固态氟化物。 16.如申请专利范围第14项所述之湿式抗反射化合 物薄膜之涂布方法,其中步骤(c)系藉由提拉之方式 或成膜液液面沈降之方式使基材脱离成膜液。 17.如申请专利范围第16项所述之湿式抗反射化合 物薄膜之涂布方法,其中该基材系放置于可固定之 篮架内,利用等速升降之马达将该基材篮等速浸泡 入成膜液中再等速提起。 18.如申请专利范围第14项所述之湿式抗反射化合 物薄膜之涂布方法,其中,各涂布层系使用相同之 成膜液。 19.如申请专利范围第14项所述之湿式抗反射化合 物薄膜之涂布方法,其中该基材系为光学基片。 20.如申请专利范围第19项所述之湿式抗反射化合 物薄膜之涂布方法,其中该光学基片系为塑胶镜片 或玻璃镜片。 图式简单说明: 第一图系本发明之涂布流程示意图。 第二图系采用本发明之涂布方法将塑胶基材以不 同浸泡频率浸泡于固定浓度之成膜液内,所获得之 薄膜其反射率与波长之关系图。 第三图系采用本发明之涂布方法将玻璃基材以固 定浸泡时间浸泡于不同浓度之成膜液内,所获得之 薄膜其反射率与波长之关系图,以及所获得之薄膜 其反射率与未涂布之玻璃基材反射率之比较图。 |
