| 主权项 |
1.一种氢氧焰设备,包括有: 一电解槽,系将纯水电解成氢气与氧气,具有一纯 水入口、一纯水出口以及一氢氧混合气送出口; 一纯水输送管路,连通于该电解槽之纯水入口及纯 水出口,该纯水输送管路包含有一帮浦,纯水系经 由该帮浦而自该该电解槽之纯水出口而被抽送至 该电解槽之纯水入口; 一氢氧混合气输送管路,其一端连接于该电解槽之 氢氧混合气送出口,以将该电解槽所电解产生之氢 氧混合气经由一供气端送出; 其特征在于该氢氧焰设备具有一冷媒冷却装置,该 冷媒冷却装置包括有: 一冷媒冷却器,连通有一纯水冷却模组及一气体冷 却模组,其中该纯水冷却模组系设置在该纯水输送 管路,用以使流通于该纯水输送管路中之纯水受到 冷却,该气体冷却模组系设置在该氢氧混合气输送 管路,用以使通过该氢氧混合气输送管路中之氢氧 混合气受到冷却。 2.如申请专利范围第1项之氢氧焰设备,该纯水输送 管路更包括有一纯水帮浦与一纯水槽。 3.如申请专利范围第1项之氢氧焰设备,在该氢氧混 合气输送管路中,气体冷却模组与该供气端之间系 依序连接有一降温液槽与一流量控制阀。 4.如申请专利范围第1项之氢氧焰设备,该电解槽更 连接有一温度感应器与一控制器。 5.如申请专利范围第1项之氢氧焰设备,该电解槽包 括有一封装外壳、一容置于该封装外壳内部之抽 拉式电解槽体与复数个容置于该电解槽体之电极 板,该封装外壳系由一第一端板、一第二端板与一 中心壳体所组成,并形成一封闭之壳体结构以容纳 该抽拉电解槽体,在该中心壳体内壁之预定位置, 具备有一组限位滑移机构,且围构出一可滑移空间 ,该抽拉电解槽体系由一第一侧面、一第二侧面、 一第一端面、一第二端面与一底面所组成,藉以形 成一开口面朝上之槽状容器结构,其中,该第一壳 面系连结固定于该封装外壳之该第一端板,且在该 第一侧面和该第二侧面中,至少有一者系位于该可 滑移空间中。 6.如申请专利范围第5项之氢氧焰设备,该限位滑移 机构系为复数个滑移限位导轨。 7.如申请专利范围第5项之氢氧焰设备,在该抽拉式 电解槽体之内部空间中,该第一侧面、该第二侧面 与该底面之预定位置处,开设有复数个电极板插置 凹槽。 8.如申请专利范围第7项之氢氧焰设备,该抽拉式电 解槽体之内部尚具备有一固定杆,其亦具备有复数 个凹槽,在该电极板插置入该电极板插置凹槽后, 该固定杆之凹槽系配合嵌置固定该电极板。 图式简单说明: 第一图系显示本创作之系统运作示意图; 第二图系第一图中电解槽之结构示意图。 |
