发明名称 |
微流体器件和制作该器件的流程 |
摘要 |
本发明提供了一微流体器件,其包括一基板、形成在基板上的多个树脂层以及形成在多个树脂层的每一个中的一三维流体回路。本发明还提供了一种制作微流体器件的方法,其包括以下步骤:(a)在一基板上形成一树脂层,并且通过以激光加工去除所述树脂层来形成用作流体流动通路的具有预定图案的沟槽;(b)通过在已加工的树脂层的整个表面上涂覆树脂来形成一后续的树脂层,并且通过对后续树脂层进行激光加工,形成沟槽和/或通向形成在涂覆有所述树脂的树脂层中的沟槽的通孔;(c)重复步骤(b);以及(d)通过最后的树脂涂覆形成一三维流体回路。 |
申请公布号 |
CN1711209A |
申请公布日期 |
2005.12.21 |
申请号 |
CN200380103360.4 |
申请日期 |
2003.11.14 |
申请人 |
TAMA-TLO株式会社 |
发明人 |
吉田善一 |
分类号 |
B81B1/00;B81C1/00;G01N35/08;G01N37/00 |
主分类号 |
B81B1/00 |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
马高平;杨梧 |
主权项 |
1.一微流体器件,所述器件包括:一基板;形成在所述基板上的多个树脂层;和形成在所述多个树脂层中的一三维流体回路。 |
地址 |
日本东京都 |