基于等离子波的纳米光刻光学装置

摘要

等离子波的纳米光刻光学装置，由反射镜(1)和(6)、均匀器(2)、滤光片(3)、HG灯光源(4)、椭球反射镜(5)和透镜组(7)组成的均匀照明系统照明金属掩模(8)，使紧接触放置硅片(10)上的抗蚀剂涂层(9)感光，HG灯光源(4)是使用可见光波段长波长光，在均匀照明位置放置的掩模是单层或多层金属掩模(8)，它与安放在其下方的抗蚀剂涂层(9)之间为无间隙紧接触，或被抽真空。本发明是用HG灯光源发出的G线436nm长波长光，照明金属掩模，激发其金属掩模表面等离子体，形成等离子表面波传播，穿过金属掩模出射小发散角光用于光刻，不受衍射极限的限制，也不需要复杂昂贵的极短波长光源与激光，就可制作出纳米量级的任意高分辨率图形。

主权项

1、基于等离子波的纳米光刻光学装置，其特征在于：均匀器(2)、滤光片(3)、HG灯光源(4)、反射镜(1)、反射镜(6)、透镜组(7)和椭球反射镜(5)组成的照明系统，HG灯光源(4)位于椭球反射镜(5)第1焦点F1 位置，其发出的各种波长的光分别经过椭球反射镜(5)和反射镜(6)反射，聚焦于反射镜(6)的第2焦点F2，再通过滤光片(3)滤光，只有波长为436±15nm的G线特征波长谱线光射入均匀器(2)的入射端，再由均匀器(2)出射的光通过反射镜(1)反射和透组镜(7)聚光，此时长波长光均匀照明在位于照明系统的均匀照明位置上放置的单层或多层金属掩模(8)，单层或多层金属掩模(8)与安放在其下方的抗蚀剂涂层(9)之间为无间隙紧接触，或被抽真空。