发明名称 | 光电器件及光电器件的制造方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种光电器件及该光电器件的制造方法,在由n型硅片、i型氢化非晶体硅层及p型氢化非晶体硅层构成的半导体层上,形成作为透光性导电膜的ITO膜,在这样制成的光电器件中,ITO膜由与半导体层接近一侧的作为碱性物质扩散防止区域的界面层、和分层淀积在该界面层上的体层来构成。通过对形成界面层及体层时的水分分压进行变动,而将界面层的结晶性降低到比体层的结晶性更低。 | ||
申请公布号 | CN1233044C | 申请公布日期 | 2005.12.21 |
申请号 | CN03120470.8 | 申请日期 | 2003.03.19 |
申请人 | 三洋电机株式会社 | 发明人 | 丸山英治 |
分类号 | H01L31/04;H01L31/0236;H01L31/18 | 主分类号 | H01L31/04 |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 黄剑峰 |
主权项 | 1.一种光电器件,包括:半导体层;和在上述半导体层上所形成的透光性导电膜;其中,上述透光性导电膜具有碱性物质扩散防止区域,上述碱性物质扩散防止区域具有透光性和导电性。 | ||
地址 | 日本大阪府 |