发明名称 薄膜磁头用滑动器的制造方法
摘要 本发明的制造方法具有对包含薄膜磁头元件的滑动器用的原料形成空气轴承面的工序和对空气轴承面的至少一部分进行刻蚀、使空气轴承面中的与薄膜磁头元件对应的部分和其它部分在同一平面上形成、或将与薄膜磁头元件对应的部分配置在比其它部分更靠近记录媒体的位置上的工序。
申请公布号 CN1232953C 申请公布日期 2005.12.21
申请号 CN01101358.3 申请日期 2001.01.02
申请人 TDK株式会社 发明人 佐佐木芳高
分类号 G11B5/60;G11B21/21;G11B5/39 主分类号 G11B5/60
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 杨凯;王忠忠
主权项 1、一种薄膜磁头用的滑动器的制造方法,该方法是具有与记录媒体相对的媒体对置面和配置在上述媒体对置面附近的薄膜磁头元件的薄膜磁头用的滑动器的制造方法,其特征在于,具有:形成包括基板、配置在该基板上的绝缘层以及在该绝缘层内形成的薄膜磁头元件的滑动器用的基材的工序;在上述滑动器用的基材中,通过研磨与上述基板和绝缘层的交界面交叉的面,对于上述滑动器用的基材形成与上述基板和绝缘层的交界面交叉的媒体对置面的工序;以及对上述媒体对置面的至少一部分进行刻蚀、使媒体对置面中因上述形成媒体对置面的工序中的研磨产生的与薄膜磁头元件对应的部分和与基板对应的部分之间的台阶差减小的工序。
地址 日本东京都