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1、一种超分辨微结构衍射元件的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)用常规紫外光刻掩模板制作技术，制备具有超分辨衍射图形的光刻掩模版：所述掩模版的工作区为圆形，所述圆由中心圆、中间环和外围环依次紧密围成，所述外围环的外径：中间环的内径：中间环的外径比为2∶0.08∶1.9；(2)在经常规清洁处理的透紫外光的材料上涂覆一层负性光刻胶，并用热板烘烤固化；(3)用紫外光刻方法对光刻胶进行光刻，其光刻掩模版为已制备了的超分辨衍射图形的铬版；(4)对光刻后的样品先烘烤，再显影，使样品上表面未被紫外光照射区域的光刻胶溶解于显影液中，被照射区域的光刻胶保留下来，所述中心圆和外围环处于被照射的区域，该区域的光刻胶保留下来，所述中间环处于未被紫外光照射区域，该区域光刻胶溶解于显影液中；(5)用溅射或蒸发方法在已完成光刻胶膜制作的样品上生长一层金属材料薄膜，这里所指的金属材料薄膜为铬或铝或铜材料薄膜；(6)将完成镀膜工艺后的样品浸泡在丙酮溶液中，去除剩余的光刻胶，所保留的结构包括有用于与外界固定的基座、外围亮环、中间暗环和中心亮圆，即制成为超分辨微结构衍射光学元件；其中，所述基座在工作区外，由衬底和沉积于其上的外围金属材料薄膜共同组成，所述中间暗环由位于工作区内的金属材料薄膜形成；所述外围亮环和中心亮圆由工作区内未被金属材料薄膜覆盖的衬底构成。 |
