| 发明名称 |
METHOD OF FORMING AN ISOLATION LAYER IN A SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
KR20050118475(A) |
申请公布日期 |
2005.12.19 |
| 申请号 |
KR20040043606 |
申请日期 |
2004.06.14 |
| 申请人 |
HYNIX SEMICONDUCTOR INC. |
发明人 |
SONG, PIL GEUN;LEE, SEUNG CHEOL |
| 分类号 |
H01L21/76;(IPC1-7):H01L21/76 |
主分类号 |
H01L21/76 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
