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经营范围
发明名称
用以于化学气相沉积系统中分布气体之档板旁道
摘要
提供一种用来分布气体于一处理室内的设备及方法。在一实施例中,该设备包括一气体分布板,其具有复数个穿过它的孔;又一档板,其具有复数个穿过它的孔及复数个设置于其内的馈通通路。一第一气体路径将一第一气体输送通过在该档板及在气体分布板上的复数个孔。一旁道气体路径将一第二气体输送通过在该档板上的复数个馈通通路并在该第二气体通过该气体分布板之前到达在该档板附近之区域。
申请公布号
TW200540292
申请公布日期
2005.12.16
申请号
TW094116785
申请日期
2005.05.23
申请人
应用材料股份有限公司
发明人
巴拉苏拔马尼安葛尼斯;罗莎亚凡利斯君卡洛斯;邱汤姆K CHO, TOM K.;瑞吉戴米恩;帕奇迪尼斯;诺瓦克汤玛斯;金柏涵;姆萨德希肯
分类号
C23C16/455
主分类号
C23C16/455
代理机构
代理人
蔡坤财
主权项
地址
美国
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