光制程窗口之一般化及其在光学接近校正测试图案设计之应用

摘要

本发明系揭示一种方法，其包括以下步骤：(a)于一处理器上模拟藉由一微影制程制造复数个布局图案；(b)基于该模拟而决定该等布局图案对复数个参数的敏感度；(c)使用该等敏感度计算该等图案在该等参数之各个别参数范围上的偏差；以及(d)选择具有最大或接近最大偏差的图案之一当作测试图案。