发明名称 曝光装置
摘要 〔课题〕目的在于提供一种曝光装置,防止感光性树脂层所挥发的挥发物质附着于凹面镜,防止凹面镜的反射率降低。〔解决手段〕在框体5内具有光源10、平面镜21、23、复眼透镜22、凹面镜24、光罩框架31以及载置台30的曝光装置1,包括沿着设于框体5内的凹面镜24的凹面送风的送风口40、设于该送风路径的空气净化过滤器40以及将沿着设置于载置台30的地面上的凹面镜24的凹面送风的空气排出框体5外的排气孔60。又,曝光装置1更具有导风板50,在经由凹面镜24与送风口40相向的框体5的壁面上,将沿凹面镜24的凹面送风的空气导入排气孔60。
申请公布号 TW200540576 申请公布日期 2005.12.16
申请号 TW094103601 申请日期 2005.02.04
申请人 奥克制作所股份有限公司 发明人 船山昌彦;伊势胜
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 洪澄文
主权项
地址 日本