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经营范围
发明名称
供紫外线(UV)刻印用之顺应式模版
摘要
所揭系为一种顺应式UV压印微影模版,其亦可作为一热压印模版,及其制造方法。该模板主要包含一纹路影像,及一弹性体可调整该纹路影像。在一实施例中,该纹路影像系被设在可顺变的压印层中,而该弹性体则被设在该压印层与硬质透明基材之间。在一实施例中,该模版可顺应一晶圆表面。在一实施例中,系将一弹性体及一压印层叠层于一基板上,并将一纹路影像图案化于该压印层中来制成该模版。
申请公布号
TW200540941
申请公布日期
2005.12.16
申请号
TW094113233
申请日期
2005.04.26
申请人
分子压模公司
发明人
渥特斯;佛席恩;史瑞尼瓦森
分类号
H01L21/00
主分类号
H01L21/00
代理机构
代理人
恽轶群;陈文郎
主权项
地址
美国
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