高效能臭氧水清洗半导体晶圆之系统及其方法

摘要

本发明系有关一种高效能臭氧水清洗半导体晶圆之系统及其方法，该方法主要利用超纯水与气相臭氧，在具有重力场之一机构环境中之气、液溶解结合制程、清洗溶液浓度动态分析制程与资料馈控技术，包含高浓度大流量液相臭氧水之制作为清洗溶液、晶圆清洗同时对溶液中臭氧、添加剂浓度与水温之动态监测，和监测值分析馈送并反应进行调整控制运作，而在维持有效晶圆表面清洗能力下，进行连续式快速之大量晶圆清洗。该系统包含一液相臭氧生成机构、一储槽或清洗槽、一添加剂供应机构、一监控机构及一自动馈控机构。