过滤器、半导体基板、处理装置及半导体基板处理方法

摘要

本发明系提供一种过滤器，其系连接于藉由H3PO4溶液进行蚀刻处理半导体基板之半导体基板处理装置之循环系者，其包含：药液投入口，其系接收含有藉由蚀刻处理所析出之微粒之H3PO4溶液；H2O添加口，其系接受添加H2O；过滤膜，其系由藉由前述添加H2O使前述热分布不均匀化之前述H3PO4溶液去除前述微粒；及保护构件，其系配设于前述H2O添加口与前述过滤膜之间，从可能因前述添加H2O而产生前述H3PO4溶液之突沸保护前述过滤膜。