| 摘要 |
本发明提供一种光阻用聚合物，其用于深紫外线(DUV)准分子雷射微影时线边粗糙度小且缺陷产生少。此光阻用聚合物含有下述式(1)或式(2)所示的酸分解性单元作为结构单元。094106913-p01.bmp(n表示2～24的整数；n＝2时，J表示单键或取代基及／或含杂原子亦可的2价烃基；n≧3时，J表示取代基及／或含杂原子亦可的n价烃基；E表示聚合终止剂或链转移剂或聚合起始剂的残基；K^1及K^2各自分别表示亚烷基、环亚烷基、氧亚烷基、亚芳基、2价的唑咻环、2价的恶唑咻环以及2价的咪唑咻环所组成之族群中的至少一种；L^1及L^2各自分别表示–C(O)O–、–C(O)–以及–OC(O)–所组成之族群中至少一种；M^1、M^2、M^3各自分别表示亚烷基、环亚烷基、氧亚烷基、亚芳基所组成之族群中的至少一种；Y、Y^1、Y^2各自分别表示酸分解性键；再者，k1、k2、11、12、m1、m2以及m3为0或1；再者，R^1表示H或甲基)。094106913-p01.bmp |
