光阻图案增厚材料及其成形方法,以及半导体元件及其制造方法

摘要

本发明提供一种光阻图案增厚材料，其可增厚光阻图案且可形成超出图案化过程中使用之曝光光线的曝光限制之细微空间图案。该光阻图案增厚材料含有树脂以及多元醇。本发明亦提供用于形成光阻图案之方法以及用于制造半导体元件之方法，其中适当地使用本发明之光阻图案增厚材料。