发明名称 Semiconductor element, semiconductor device, and method for fabrication thereof
摘要 A nitride semiconductor growth layer is laid on a substrate having an engraved region provided with a depressed portion.
申请公布号 US2005277212(A1) 申请公布日期 2005.12.15
申请号 US20050137352 申请日期 2005.05.26
申请人 SHARP KABUSHIKI KAISHA 发明人 KAMIKAWA TAKESHI
分类号 H01S5/343;H01L21/00;H01S5/02;H01S5/22;H01S5/223;(IPC1-7):H01L21/00 主分类号 H01S5/343
代理机构 代理人
主权项
地址