发明名称 |
Semiconductor element, semiconductor device, and method for fabrication thereof |
摘要 |
A nitride semiconductor growth layer is laid on a substrate having an engraved region provided with a depressed portion.
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申请公布号 |
US2005277212(A1) |
申请公布日期 |
2005.12.15 |
申请号 |
US20050137352 |
申请日期 |
2005.05.26 |
申请人 |
SHARP KABUSHIKI KAISHA |
发明人 |
KAMIKAWA TAKESHI |
分类号 |
H01S5/343;H01L21/00;H01S5/02;H01S5/22;H01S5/223;(IPC1-7):H01L21/00 |
主分类号 |
H01S5/343 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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